【終了しました】ナノファブスクエア第2回【精密リソグラフィ】開催案内

2024年度も、新川崎にあるNANOBICオープンラボ において、ナノ・マイクロデバイスの研究開発に必要な加工・分析・観察・評価技術について、
理論から装置の操作方法までを習得できる講習・実習会をシリーズで開催します。

本年度第2回として、フォトレジストの性質、精密露光や現像のテクニックについて講習を行ないます。
さらにNANOBICのマスクアライナを使って実習を行なっていただくことで、精密フォトリソグラフィを習得できます。

参加ご希望の方は下記の申込フォームよりお申込みください。 好評につき定員に達しました

日時:2024年5月23日(木) 13:30~16:30(講習1時間、実習2時間)

費用:13,000円

定員:先着5名程度

実習内容:精密フォトリソグラフィの体験実習

実習機器:手動両面マスクアライナ  SUSS MA6BSA(ズース・マイクロテック株式会社製)

講師  :佐藤 友美 先生 ( (地独)神奈川県立産業技術総合研究所)

場所  :かわさき新産業創造センター AIRBIC 会議室1(川崎市幸区新川崎7-7 新川崎・創造のもり)

             ▶ アクセス

実習会案内パンフレット: ▶ ご案内パンフレット 

今後の実施計画:     ▶ 年間スケジュール 

実習会参加申込:        ▶ 申込フォーム 好評につき定員に達しました

主催:4大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム、(地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)、川崎市


本講習・実習会は、日本工学会ECE(高度技術者教育)プログラムの認定のもと実施しており、
所期の成績を収めた方には修了証とNano Fab Square Award各賞を授与いたします。