２０２４年度も、新川崎にあるNANOBICオープンラボ において、ナノ・マイクロデバイスの研究開発に必要な加工・分析・観察・評価技術について、
理論から装置の操作方法までを習得できる講習・実習会をシリーズで開催します。
本年度第２回として、フォトレジストの性質、精密露光や現像のテクニックについて講習を行ないます。
さらにNANOBICのマスクアライナを使って実習を行なっていただくことで、精密フォトリソグラフィを習得できます。
参加ご希望の方は下記の申込フォームよりお申込みください。 好評につき定員に達しました
日時：２０２４年５月２３日（木） １３：３０～１６：３０（講習１時間、実習２時間）
費用：13,000円
定員：先着５名程度
実習内容：精密フォトリソグラフィの体験実習
実習機器：手動両面マスクアライナ SUSS MA６BSA（ズース・マイクロテック株式会社製）
講師 ：佐藤 友美 先生 （ (地独)神奈川県立産業技術総合研究所）
場所 ：かわさき新産業創造センター AIRBIC 会議室１（川崎市幸区新川崎７－７ 新川崎・創造のもり）
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実習会参加申込： ▶ 申込フォーム 好評につき定員に達しました
主催：４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム、(地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)、川崎市
本講習・実習会は、日本工学会ECE（高度技術者教育）プログラムの認定のもと実施しており、
所期の成績を収めた方には修了証とNano Fab Square Award各賞を授与いたします。
ECE認定プログラムコース案内