２０２５年度も、新川崎にあるNANOBICオープンラボ において、ナノ・マイクロデバイスの研究開発に必要な加工・分析・観察・評価技術について、
理論から装置の操作方法までを習得できる講習・実習会をシリーズで開催します。
本年度第１回として、フォトレジストの性質、精密露光や現像のテクニックについて講習を行ないます。
さらにNANOBICのマスクアライナを使って実習を行なっていただくことで、精密フォトリソグラフィを習得できます。
参加ご希望の方は下記の申込フォームよりお申込みください。
日時：２０２５年５月１４日（水） １３：３０～１６：３０（講習１時間、実習２時間）
費用：13,000円
定員：先着５名程度
実習内容：フォトレジストの性質、精密露光や現像のテクニックについての講習およびリソグラフィの体験実習
実習機器：手動両面マスクアライナ SUSS MA６BSA（ズース・マイクロテック株式会社製）
講師 ：山本 貴富喜 先生 （ 東京科学大学工学院 准教授）
場所 ：かわさき新産業創造センター AIRBIC 会議室１（川崎市幸区新川崎７－７ 新川崎・創造のもり）
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今後の実施計画： ▶ 年間スケジュール
実習会参加申込： ▶ 申込フォーム
主催：４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム、(地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)、川崎市
本講習・実習会は、日本工学会ECE（高度技術者教育）プログラムの認定のもと実施しており、
所期の成績を収めた方には修了証とNano Fab Square Award各賞を授与いたします。
詳細につきましては後日ご案内いたします。