新川崎にあるNANOBICオープンラボ において、ナノ・マイクロデバイスの研究開発に必要な加工・分析・観察・評価技術について、理論から装置の操作方法までを習得できる講習・実習会をシリーズで開催しています。
本年度第２回として、フォトレジストの性質、精密露光や現像のテクニックについて講習を行います。さらにNANOBICのマスクアライナーを使って実習を行っていただくことで、精密フォトリソグラフィを習得できます。
参加ご希望の方は下記のgoogleフォームよりお申込みください。
日時：２０２３年５月25日（木） １３：３０～１６：３０（講習１時間、実習２時間）
費用：11,000円（実費+コロナ対策費）
定員：先着５名程度
実習内容：フォトレジストの性質、精密露光や現像のテクニックについて講習を行います。さらにNANOBICのマスクアライナを
使って実習を行っていただくことで、精密フォトリソグラフィを習得できます。
実習機器：手動両面マスクアライナ (SUSS MicroTec社製)
講師 ：佐藤 友美 先生 ((地独)神奈川県立産業技術総合研究所)
場所 ：かわさき新産業創造センター AIRBIC 会議室１（川崎市幸区新川崎７－７ 新川崎・創造のもり）
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主催：４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム、(地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)、川崎市
なお、川崎市に事業所を有する中小企業の皆様は、川崎市からの補助が受けられます。川崎市補助金募集案内
本講習・実習会は、日本工学会ECE（高度技術者教育）プログラムに申請中です。
ECE認定プログラムコース案内