NANOBICオープンラボは、慶應義塾大学、早稲田大学、 東京工業大学、東京大学の４大学が
連携・協力して「新川崎・創造のもり」に設立したナノマイクロ加工・評価機器を備えた
先端研究・試作拠点です。
クリーンルームには３５種類以上の最先端の精密加工・観察装置がそろっており、一般企業の
皆様にも御利用いただけます。
このホームページでは実際にご利用頂くための手続きなどのご案内や、施設紹介、装置の一覧
などを掲載しております。
興味が御座いましたら、お気軽に「お問い合わせ」のページの担当者までご連絡下さい。
見学もいつでも受け付けております。
★2018年度 第７回ナノファブスクエア講習・実習会
『マイクロモールディング 講習・実習会』開催案内
日時：２０１８年８月３０日（木）
１３：３０～１６：３０（講習１時間、実習２時間）
講師：三宅 亮 氏（東京大学大学院工学系研究科 教授）
実習機器：レーザー直接描画装置 DWL 66fs
▶ 設備一覧のページ
実習内容：ミクロオーダーの鋳型（モールドﾞ）を作り、転写技術によって
マイクロ流路を作製します。簡単な送液実験も行います。
場所：かわさき新産業創造センター（KBIC） 集合場所：NANOBIC ２F会議室
（川崎市幸区新川崎７－７ 新川崎・創造のもり JR新川崎駅から徒歩１０分）
▶ アクセスのページ
定員：先着５名程度
費用：1万円（実費）
主催：４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム
(地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)、川崎市
実習会案内パンフレット： ▶ ご案内パンフレット
年間スケジュール：▶ 年間スケジュール
実習会参加申込方法：下記「参加申込書」をダウンロードして、必要事項をご記入の上、
下記オープンラボ事務局までメールに添付してお送りください。
▶ 参加申込書（ダウンロード）
申込み: オープンラボ事務局 nano-micro@open-labo.jp まで
問合せ先： KISTEC 真期 a-maki@newkast.or.jp
TEL 080-6560-3060
★2018年度 第６回ナノファブスクエア講習・実習会
『レジスト塗布 講習・実習会』を開催しました。
日時：２０１８年８月８日（水）
１３：３０～１６：３０（講習１時間、実習２時間）
講師：田口 良広 氏（慶應義塾大学理工学部 准教授）
実習機器：クラスタ型コータディベロッパ（SUSS MicroTech社製 GAMMA）
▶ 設備一覧のページ
実習内容：感光性ﾚｼﾞｽﾄを均一膜厚に全自動塗布する装置の仕組みについて講習を行います。
さらにNANOBICの装置を使って実習を行っていただくことで、その技術を
習得できます。
場所：かわさき新産業創造センター（KBIC） 集合場所：NANOBIC ２F会議室
（川崎市幸区新川崎７－７ 新川崎・創造のもり JR新川崎駅から徒歩１０分）
▶ アクセスのページ
定員：先着５名程度
費用：1万円（実費）
主催：４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム
(地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)、川崎市
★2018年度 第５回ナノファブスクエア講習・実習会
『シリコン深掘りドライエッチング 講習・実習会』を開催しました。
日時：２０１８年７月２７日（金）
１３：３０～１６：３０（講習１時間、実習２時間）
講師：関口 哲志 氏（早稲田大学 ナノ・ライフ創新研究機構 研究院教授）
実習機器：シリコン深掘りDRIE装置 MUC-21（住友精密工業製）
▶ 設備一覧のページ
実習内容：シリコンの深掘り加工の原理や、応用事例について講習を行います。
さらにNANOBICの装置を使って実習を行っていただくことで、
その技術を習得できます。
場所：かわさき新産業創造センター（KBIC） 集合場所：KBIC ２F会議室
（川崎市幸区新川崎７－７ 新川崎・創造のもり JR新川崎駅から徒歩１０分）
▶ アクセスのページ
定員：先着５名程度
費用：1万円（実費）
主催：４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム
(地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)、川崎市
★2018年度 第４回ナノファブスクエア講習・実習会
『加工表面観察 講習・実習会』開催しました。
日時：２０１８年７月１２日（木）
１３：３０～１６：３０（講習１時間、実習２時間）
講師：松垣 仁（(地独)神奈川県立産業技術総合研究所）
実習機器：①超高解像度表面形状計測装置 WYKO NT9100A
ブルカー・エイエックス社製。非接触計測。柔軟、透明材料等の測定に。
②触針式表面形状測定器 DEKTAK XT-A
ブルカー・エイエックス社製。接触計測。硬質、透明材料の測定に。
▶ 設備一覧のページ
実習内容：微細加工表面のﾌﾟﾛﾌｧｲﾙ測定の原理について講習を行い、
更に、モデル試料を用いた実習で測定技術を習得できます。
場所：かわさき新産業創造センター（KBIC） 集合場所：NANOBIC２F会議室
（川崎市幸区新川崎７－７ 新川崎・創造のもり JR新川崎駅から徒歩１０分）
▶ アクセスのページ
定員：先着５名程度
費用：1万円（実費）
主催：４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム
(地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)、川崎市
★2018年度 第３回ナノファブスクエア講習・実習会
『精密フォトリソグラフィ 講習・実習会』開催しました。
日時：２０１８年６月２８日（木）
１３：３０～１６：３０（講習１時間、実習２時間）
講師：佐藤 友美 （(地独)神奈川県立産業技術総合研究所 工学博士）
実習機器：手動両面マスクアライナ装置
（SUSS MicroTec社製 SUSS MA6 BSA)
▶ 設備一覧のページ
実習内容：フォトレジストの性質、精密露光や現像のﾃｸﾆｯｸについて講習を行います。
さらにNANOBICのマスクアライナーを使って実習を行っていただくことで、
精密フォトリソグラフィを習得できます。
場所：かわさき新産業創造センター（KBIC） 集合場所：NANOBIC２F会議室
（川崎市幸区新川崎７－７ 新川崎・創造のもり JR新川崎駅から徒歩１０分）
▶ アクセスのページ
定員：先着５名程度
費用：1万円（実費）
主催：４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム
(地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)、川崎市
★2018年度 第２回ナノファブスクエア講習・実習会
『レーザー直接描画装置 講習・実習会』を開催しました
日時：２０１８年５月３１日（木）
１３：３０～１６：３０（講習１時間、実習２時間）
講師：山本 貴富喜 先生 （東京工業大学工学院 准教授）
実習機器：レーザー直接描画装置
（Heiderberg Instruments Mikrotechnik社製DWL66fs）
▶ 設備一覧のページ
実習内容：フォトレジストへのリソグラフィの体験実習
場所：かわさき新産業創造センター（KBIC） 集合場所：NANOBIC２F会議室
（川崎市幸区新川崎７－７ 新川崎・創造のもり JR新川崎駅から徒歩１０分）
▶ アクセスのページ
定員：先着５名程度
費用：1万円（実費）
主催：４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム
(地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)、川崎市
★2018年度 第1回ナノファブスクエア講習・実習会
『超解像度顕微鏡STED 講習・実習会』を開催しました
日時：２０１８年５月１７日（木）
１３：３０～１６：３０（講習１時間、実習２時間）
講師：笠間 敏博 先生 （東京大学大学院工学系研究科 助教）
実習機器：超解像度レーザー顕微鏡
（ライカマイクロシステムズ社製STED-CW）
▶ 設備一覧のページ
実習内容：通常の光学顕微鏡では見えない80nm領域に迫る
超解像イメージングの体験実習
場所：かわさき新産業創造センター（KBIC） 集合場所：NANOBIC２F会議室
（川崎市幸区新川崎７－７ 新川崎・創造のもり JR新川崎駅から徒歩１０分）
▶ アクセスのページ
定員：先着５名程度
費用：1万円（実費）
主催：４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム
(地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)、川崎市
★４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム・シンポジウム
を開催しました。
開催日：平成30年3月29日（木）13:00～18:00
会場：新川崎・創造のもり地区 K2タウンキャンパス Ｋ2ハウス（厚生棟）大会議室
（川崎市幸区新川崎7-1） ▶ アクセスのページ
参加費：無料
★ナノファブスクエア第１５回『3次元加工構造観察 講習・実習会』を開催しました。
ご案内：マイクロ流路の試作から表面形態の観察・評価までを行うプログラムにより、
目的に応じた受講ができる講習・実習会を開催し、多数の方々に参加をいただいて
きております。今回は、レーザー顕微鏡および3Dリアルサーフェスビュー顕微鏡の
観察の原理について講習し、実際に装置を使ってナノ・マイクロ構造物の観察を
行います。
参加ご希望の方は添付申込書に記載の上、唐澤までメールでお申込み下さい。
日時：２０１８年３月１６日（金）
１３：３０～１６：３０（講習１時間、実習２時間）
講師：奥村 直喜 先生 （株式会社キーエンス）
実習機器：レーザー顕微鏡（VK-8510）および3Dリアルサーフェスビュー顕微鏡（VE-8800）
▶ 設備一覧のページ
実習内容：レーザー顕微鏡および3Dリアルサーフェスビュー顕微鏡の観察の原理について
講習します。また、実際に装置を使ってナノ・マイクロ構造物の観察の実習を
行います。
場所：かわさき新産業創造センター（KBIC）NANOBIC
（川崎市幸区新川崎７－７ 新川崎・創造のもり JR新川崎駅から徒歩１０分）
▶ アクセスのページ
定員：先着５名程度
費用：1万円（実費）
主催：４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム
(地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)、川崎市
再クリックで閉じます）
★ナノファブスクエア第１４回『デバイス接合 講習・実習会』を開催しました。
ご案内：マイクロ流路の試作から表面形態の観察・評価までを行うプログラムにより、
目的に応じた受講ができる講習・実習会を開催し、多数の方々に参加をいただいて
きております。今回は、実用化で重要となるデバイス接合技術の概要と原理に
ついて講習し、モデル流路の試作で、プラズマによるPDMS樹脂の接合実習までを
体験する『デバイス接合講習実習会』を元㈱日立製作所の河野顕臣氏を講師に
お招きし最近の進展も入れ下記の通り開催します。
参加ご希望の方は添付申込書に記載の上、唐澤までメールでお申込み下さい。
日時：２０１８年２月２３日（金）
１３：３０～１６：３０（講習１時間、実習２時間）
講師：河野 顕臣氏（元㈱日立製作所）
実習機器：プラズマ装置（ヤマト科学社製PR510）
レーザー直接描画装置（Heidelberg Instruments社製DWL66FS）他
▶ 設備一覧のページ
実習内容：プラズマなどを使ったデバイス材料の接合の原理について講習します。
また、実際にプラズマ装置などを使った実習を行います。
場所：かわさき新産業創造センター（KBIC）NANOBIC
（川崎市幸区新川崎７－７ 新川崎・創造のもり JR新川崎駅から徒歩１０分）
▶ アクセスのページ
定員：先着５名程度
費用：無料
主催：４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム
(地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)、川崎市
★ナノファブスクエア第１３回『ウエーハ切断 講習・実習会』を開催しました。
ご案内：マイクロ流路の試作から表面形態の観察・評価までを行うプログラムにより、
目的に応じた受講ができる講習・実習会を開催し、多数の方々に参加をいただいて
きております。今回は、ダイシングソーによりウエーハを切断する
『ウエーハ切断 講習・実習会』を㈱ディスコの清水芳昭氏を講師に
下記の通り開催します。
日時：２０１８年２月８日（木）
１３：３０～１６：３０（講習１時間、実習２時間）
講師：清水芳昭氏 （㈱ディスコ 国内営業部 テクニカルソリューショングループ）
実習機器：ダイシングソー DAD-522（ディスコ社製）
▶ 設備一覧のページ
実習内容：ダイシングソーを使ったウエーハ切断の原理について講習します。
また、実際に装置を使った実習を行います。
場所：かわさき新産業創造センター（KBIC）NANOBIC
（川崎市幸区新川崎７－７ 新川崎・創造のもり JR新川崎駅から徒歩１０分）
▶ アクセスのページ
定員：先着５名程度
費用：1万円(実費）
主催：４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム
(地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)、川崎市
協力：㈱ディスコ 国内営業部 テクニカルソリューショングループ
★ナノファブスクエア第１２回『ウェットエッチング講習・実習会』を開催しました。
ご案内：マイクロ流路の試作から表面形態の観察・評価までを行うプログラムにより、
目的に応じた受講ができる講習・実習会を開催し、多数の方々に参加をいただいて
きております。今回は、ウェットエッチングの原理について講習し、
Au/Crスパッタ膜の電極形成に係るウエットエッチングを実習で体験する
『ウェットエッチング講習・実習会』をマイクロマシンセンター(MMC)の
小出晃氏を講師に下記の通り開催します。
日時：２０１８年２月２日（金）
１３：３０～１６：３０（講習１時間、実習２時間）
講師：小出 晃 氏（一般財団法人マイクロマシンセンター 産業交流部）
実習内容：ウェットエッチングの原理について講習します。
また、実際にウェットエッチングの実習を行います。
場所：かわさき新産業創造センター（KBIC）NANOBIC
（川崎市幸区新川崎７－７ 新川崎・創造のもり JR新川崎駅から徒歩１０分）
▶ アクセスのページ
定員：先着５名程度
費用：1万円(実費）
主催：４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム
(地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)、川崎市
★ナノファブスクエア第１１回『パリレン薄膜形成 講習・実習会』を開催しました。
日時：２０１８年１月１１日（木）
１３：３０～１６：３０（講習１時間、実習２時間）
講師：三木 則尚 氏（慶應義塾大学 理工学部 教授）
実習機器：パリレン蒸着装置 PDS-2010 （日本パリレン合同会社製）
▶ 設備一覧のページ
実習内容：パリレン蒸着装置を使ったパリレン薄膜形成法の原理について講習します。
また、実際に装置を使った実習を行います。
場所：かわさき新産業創造センター（KBIC）NANOBIC
（川崎市幸区新川崎７－７ 新川崎・創造のもり JR新川崎駅から徒歩１０分）
▶ アクセスのページ
定員：先着５名程度
費用：1万円(実費）
主催：４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム
(地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)、川崎市
★ナノファブスクエア第１０回『金属薄膜形成（2）講習・実習会』を開催しました。
日時：２０１７年１１月２２日（水）
１３：３０～１６：３０（講習１時間、実習２時間）
講師：田口 良広 氏 （慶應義塾大学 理工学部 准教授）
実習機器：４元マグネトロンサイドスパッタ装置 CFS-4EP-LL（芝浦メカトロニクス社製）
４種類のターゲットが搭載でき、金属膜他、透明導電膜、誘電体膜等を形成可能
（Au、Ag、Pt,、Cu、Si、Ti、Sn、Cr、Al、Ni、NiCr、ITO、AZO、SiO2、TiO2等）
▶設備一覧のページ
実習内容：マグネトロンスパッタを使った金属薄膜形成法の原理・デバイス作製
について講習します。また、実際に装置を使った実習を行います。
場所：かわさき新産業創造センター（KBIC）NANOBIC
（川崎市幸区新川崎７－７ 新川崎・創造のもり JR新川崎駅から徒歩１０分）
▶アクセスのページ
定員：先着５名程度
費用：1万円(実費）
主催：４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム
(地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)、川崎市
★ナノファブスクエア第９回『金属薄膜形成（１）講習・実習会』を開催しました。
日時：２０１７年１１月１０日（金）
１３：３０～１６：３０（講習１時間、実習２時間）
講師：茂木 克雄 氏（産業技術総合研究所 創薬分子プロファイリング研究センター
主任研究員）
実習機器：ECRイオンビームスパッター装置 EIS-230W（エリオニクス社製）
▶設備一覧のページ
実習内容：ECRプラズマを使った金属薄膜形成法の原理について講習します。
また、実際に装置を使った実習を行います。
場所：かわさき新産業創造センター（KBIC）NANOBIC
（川崎市幸区新川崎７－７ 新川崎・創造のもり JR新川崎駅から徒歩１０分）
▶アクセスのページ
定員：先着５名程度
費用：1万円(実費）
主催：４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム
(地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)、川崎市
★ナノファブスクエア第８回『ガラスエッチング講習・実習会』を開催しました。
日時：２０１７年１０月１９日（木）
１３：３０～１６：３０ （講習１時間、実習２時間）
講師：塚原 剛彦 氏（東京工業大学 科学技術創成研究院先導原子力研究所 准教授）
実習機器：高密度プラズマエッチング装置 NLD-570 （アルバック 社製）
▶設備一覧のページ
実習内容：プラズマを使ったガラスの深掘りエッチングについて、
原理の講習と、実際に装置を使った実習を行います。
場所：かわさき新産業創造センター（KBIC）新館 NANOBIC
（川崎市幸区新川崎７－７ 新川崎・創造のもり ＪＲ新川崎駅から徒歩１０分)
▶アクセスのページ
定員：先着５名程度
費用：1万円(実費）
主催：４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム
(地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)、川崎市
★ナノファブスクエア第７回『マイクロモールディング実習会』を開催しました。
日時：２０１７年１０月１３日（金）
９：４５～１６：３０（試作実習４時間、実証観察1時間）
実習機器：レーザー直接描画装置 DWL66fs
（Heidelberg Instruments Mikrotechnik社製）▶設備一覧のページ
実習内容：ミクロンオーダーの鋳型を作り、それを元にPDMSでマイクロ流路を作製、
蛍光で流路が光る実証試験を行います。
場所：かわさき新産業創造センター（KBIC）新館 NANOBIC
（川崎市幸区新川崎７－７ 新川崎・創造のもり ＪＲ新川崎駅から徒歩１０分)
▶アクセスのページ
定員：先着５名程度
参加費：無料
主催：４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム
(地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)、川崎市
★ナノファブスクエア第６回『シリコン深掘りドライエッチング講習・実習会』を開催しました。
日時：２０１７年９月１５日（金） （←14(木)を訂正）
１３：３０～１６：３０（講習１時間、実習２時間）
講師：早稲田大学ナノ・ライフ創新研究機構 研究院教授
関口 哲志氏
実習機器：シリコン深掘りＤＲＩＥ装置
（住友精密工業株式会社製 ＭＵＣ-２１） ▶設備一覧のページ
実習内容：シリコンの深掘り加工の原理や、応用事例について講習を行います。
更にNANOBICの装置を使ってモデルチップの実習を行っていただくことで、
技術を習得できます。
場所：かわさき新産業創造センター（KBIC）新館 NANOBIC
（川崎市幸区新川崎７－７ 新川崎・創造のもり ＪＲ新川崎駅から徒歩１０分)
▶アクセスのページ
定員：先着５名程度 参加費：１万円（実費）
主催：４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム
(地独)神奈川県立産業技術総合研究所(KISTEC)、川崎市
★ナノファブスクエア第５回『加工表面観察 講習・実習会』を開催しました。
日時：２０１７年８月２４日（木） １３：３０～１６：３０（講習１時間、実習２時間）
講師： ブルカー・エイエックスエス㈱ ブルカーナノ表面計測事業部 寺山剛司氏
実習機器：ブルカー・エイエックスエス社製
超解像度表面形状計測装置（WYKO NT9100A）*
触針式表面形状測定器 （ DEKTAK XT-A）*
実習内容：微細加工表面のプロファイル測定の原理について講習を行います。
さらに、実機を用いた実習で測定技術を習得できます。
場所：かわさき新産業創造センター（KBIC）新館 NANOBIC*
（川崎市幸区新川崎７－７ 新川崎・創造のもり ＪＲ新川崎駅から徒歩１０分)
＊「NANOBICオープンラボ」ホームページ http://open-labo.skr.jp/ の
機器一覧及びアクセスをご覧下さい。
定員：先着５名程度
参加費：無料
主催：(地独)神奈川県立産業技術総合研究所（KISTEC)
川崎市
４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム
協力：ブルカー・エイエックスエス㈱ブルカーナノ表面計測事業部
★「４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム・シンポジウム／
(併催)MEMS集中講義in川崎」 を開催しました。
特別講演及びナノ・マイクロファブリケーションに関する先端活用事例を紹介する
シンポジウムを下記の通りに開催いたしました。
今回は、東北大学，MEMSパークコンソーシアム主催のMEMS集中講義と併せて開催しました。
場所：川崎市産業振興会館 神奈川県川崎市幸区堀川町66番地20
（案内図：http://www.kawasaki-net.ne.jp/kaikan/access.html ）
主催：4大学ナノ・マイクロファブリケ―ションコンソーシアム
日程・プログラム：
●8月2日（水）午後 『4大学コンソーシアム・シンポジウム』
・特別講演
１．「フォトンサイエンスによるイノベーションの創出－高精細3Dプリンタ，
臓器透明化技術－」
講師 東京大学 湯本 潤司氏
２．「LiDAR技術とその応用」
講師 株式会社日立LGデータストレージ 新谷 俊通氏
３．「コンソーシアム活動状況」 東京大学 三宅 亮
・NANOBIC*見学会 (希望者) 見学会場(川崎市幸区新川崎7-7 新川崎・創造のもり地区
へ移動
*場所は「アクセス」のページをご覧ください。
●(併催)7月31日（月） ～ 8月2日（水） 『MEMS集中講義 in 川崎』
★ナノファブスクエア第４回『手動両面マスクアライナ装置講習・実習会』を開催しました。
日時：２０１７年６月２３日（金） １４：００～１７：００（講習１時間、実習２時間）
講師：佐藤 友美（（地独）神奈川県立産業総合研究所、東京大学大学院工学系研究科）
実習機器：手動両面マスクアライナ装置
(SUSS MicroTech社製 SUSS MA6 BSA) *
実習内容：フォトレジストの性質、精密露光や現像のテクニックについて講習を行います。
さらにNANOBICのマスクアライナーを使って実習を行っていただくことで、
精密フォトリソグラフィを習得できます。
場所：かわさき新産業創造センター（KBIC）新館 NANOBIC*
（川崎市幸区新川崎７－７ 新川崎・創造のもり ＪＲ新川崎駅から徒歩１０分)
＊「NANOBICオープンラボ」ホームページ http://open-labo.skr.jp/ の機器一覧及び
アクセスをご覧下さい。
定員：先着５名程度 参加費：1万円(実費）
主催：４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム、
(地独)神奈川県立産業技術総合研究所、
川崎市
共催：次世代マイクロ化学チップコンソーシアム
★ナノファブスクエア第３回『クラスター型コータディベロッパ・スピンコータ装置講習・実習会』
を開催しました。
日時：２０１７年６月９日（金） １４：００～１７：００（講習１時間、実習２時間）
講師：田口良広（慶應義塾大学 准教授）
実習機器：クラスター型コーターディベロッパ・スピンコータ
(SUSS MicroTech社製GAMMA) *
実習内容：マイクロ加工のための、レジスト膜全自動バッチ塗布の体験実習
場所：かわさき新産業創造センター（KBIC）新館 NANOBIC*
（川崎市幸区新川崎７－７ 新川崎・創造のもり ＪＲ新川崎駅から徒歩１０分)
＊「NANOBICオープンラボ」ホームページ http://open-labo.skr.jp/ の機器一覧及び
アクセスをご覧下さい。
定員：先着５名程度 参加費：1万円(実費）
主催：４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム、
(地独)神奈川県立産業技術総合研究所、
川崎市
共催：次世代マイクロ化学チップコンソーシアム
★ナノファブスクエア第２回『レーザー直接描画装置講習・実習会』を開催しました。
日時：２０１７年５月１２日（金） １３：３０～１６：３０（講習１時間、実習２時間）
講師：山本貴富喜（東京工業大学工学院 准教授）
実習機器：レーザー直接描画装置 (Heiderberg Instruments Mikrotechnik社製DWL66fs) *
実習内容：マスクレスマイクロフォトリソグラフィの体験実習
場所：かわさき新産業創造センター（KBIC）新館 NANOBIC*
（川崎市幸区新川崎７－７ 新川崎・創造のもり ＪＲ新川崎駅から徒歩１０分)
＊「NANOBICオープンラボ」ホームページ http://open-labo.skr.jp/ の機器一覧及び
アクセスをご覧下さい。
定員：先着５名程度 参加費：1万円(実費）
参加者：7名でした。
主催：４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム、
(地独)神奈川県立産業技術総合研究所、
川崎市
共催：次世代マイクロ化学チップコンソーシアム
★MEMS Engineer Forum 2017が開催されました
日時：2017年4月26日（水）～ 27日（木）
場所：両国KFCホール
ＨＰ： http://www.m-e-f.info/
（参考）参加団体：東京大学 三宅研究室
４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム
★４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム シンポジウムを開催しました。
テーマ：『ナノ・マイクロ研究拠点における産学連携と科学技術人材育成』
日時： 2017年3月13日(月)１３:００～１８:００
場 所：新川崎・創造のもり地区 K2タウンキャンパス 大会議室
〒212-0032 神奈川県川崎市幸区新川崎7-7
（地図： https://goo.gl/maps/ySmqKdFwhVn）
参加費：無 料
【特別講演テーマ】
脳構造を模したデバイスの現状とコグニティブコンピューティングに
向けた挑戦
日本アイ・ビー・エム 東京基礎研究所 サイエンス＆テクノロジー部長
新川崎事業所長 山道 新太郎 様
★「超解像度顕微鏡STED講習・実習会」を開催しました。
日時：２０１７年３月９日（木）１３：３０～１６：３０
場所：かわさき新産業創造センター（KBIC)
講師：笠間敏博 （東京大学大学院工学系研究科 助教）
実習内容：レーザーの光で通常の光学顕微鏡では見えない80nm領域に迫る
超解像イメージングの体験実習
（多重免疫染色したHeLa細胞のSTED観察）
定員：先着5名程度 ⇒ 10名参加されました。
参加費：無料
問い合わせ先： 唐澤 志郎 E-mail : karasawa@newkast.or.jp Tel：080-6560-3061
★ナノテク展に出展しました
名称：nano tech 2017 第16回 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議
日時：2017年2月15日（水）～ 17日（金）10：00-17：00
会場：東京ビッグサイト東4・5・6ホール&会議棟
ＨＰ： http://www.nanotechexpo.jp/main/
★装置実習会を開催しました。
装置 ： ４元マグネトロンスパッタ装置
日時 ： 2016年12月19日（月）13:00 ～ 17:00
会場 ： NANOBICクリーンルーム及びKBIC小会議室
川崎市幸区新川崎７－１ 新川崎・創造のもり地区
参加費 ： 無料
人数 ： 5名（先着順）
★ナノ茶論第8回セミナーを開催しました。
2016年12月16日(金) 15：30～17：00
発表者：東京理科大学 基礎工学部 電子応用工学科 谷口 淳 教授
発表テーマ：ロールナノインプリント技術と反射防止構造の作製
★装置講習会を開催しました
装置 ： コータディベロッパー
講師 ： ズース・マイクロテック（株）様
日時 ： 2016年11月16日（水）13:00 ～ 17:00
会場 ： NANOBICクリーンルーム及びKBIC小会議室
川崎市幸区新川崎７－１ 新川崎・創造のもり地区
（集合場所：NANOBICロビー）
参加費 ： 無料
人数 ：15名（先着順）
★４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム シンポジウムを開催しました。
日時 ： 2016年9月28日（水）13:00 ～ 17:40
会場：K2タウンキャンパス大会議室
川崎市幸区新川崎７－１ 新川崎・創造のもり地区
★2016年7月21日
2016年度マルチチップマイクロ流路試作実習会（７月２１日開催）開催しました。
主 催： 公益財団法人神奈川科学技術アカデミー, 川崎市、
４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム
実習機器 ： レーザー直接描画装置（Heidelberg Instruments社製DWL66FS）他
講 師： 東京大学大学院工学系研究科 教授 三宅 亮 研究室
国際工学教育推進機構、バイオエンジニアリング専攻（兼務）
場 所： 新産業創造センター NANOBIC 川崎市幸区新川崎7-7 新川崎創造のもり地区
日 時： 2016年７月2１日 9:45～（実習時間は5時間程度）
定 員： 5名（先着順）
★2016年7月15日
ナノ茶論第４回セミナーを開催しました。
日時 ： ２０１６年７月１５日（金）15:30 ～ 17:00
発表者：中央大学 理工学部精密機械工学科 教授 鈴木 宏明 氏
発表テーマ：機械（メカ）屋から見た細胞
場所 ： 新川崎・創造のもり「KBIC」（川崎市幸区新川崎７－７）
参加費 ： 500円
主催 ： 川崎市
★テクノトランスファー併催セミナーを開催しました。
MEMSの最新動向とオープンコラボレーション
開催日時：平成28年7月6日(水）13:30～15:30
場所：かながわサイエンスパーク（KSP）
〒213-0012 川崎市高津区坂戸3-2-1 709会議室
発表者：東北大学 マイクロシステム融合研究開発センター長
江刺 正喜 氏
発表テーマ：MEMSの最新動向とオープンコラボレーション
★ナノ茶論第３回セミナーを開催しました。
日時 ： ２０１６年６月２４日（金）15:30 ～ 17:00
発表者：千葉大学 大学院工学研究科・工学部 教授 尾松 孝茂 氏
発表テーマ：光渦の輻射力が創る単結晶性シリコンニードルとその応用
場所 ： 新川崎・創造のもり「KBIC」（川崎市幸区新川崎７）
参加費 ： 500円
主催 ： 川崎市
★４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム・シンポジウムが３月２９日に
開催されました。
テーマ：ナノ・マイクロ研究拠点における産学連携と先端活用事例
会場：新川崎・創造のもり地区
開催日：３月２９日（火）13:00～16:40
参加費：無料
★2015年度マルチチップマイクロ流路試作実習会が３月２日に開催されました
日 時： 2016年3月2日 NANOBIC （実習時間は5時間程度）
主 催： 公益財団法人神奈川科学技術アカデミー、 川崎市、
４大学ナノ・マイクロファブリケーションコンソーシアム
実習機器 ： レーザー直接描画装置（Heidelberg Instruments社製DWL66FS）他
講 師： 東京大学大学院工学系研究科 教授 三宅 亮 研究室
国際工学教育推進機構、バイオエンジニアリング専攻（兼務）
場 所： 新産業創造センター NANOBIC 川崎市幸区新川崎7-7 新川崎創造のもり地区
研修目標 ： 複数ユーザーのマルチチップを同一ウエハ上に設計したマイクロ流路の
CADデータを迅速にマスクレスレーザーリソグラフィによりSU8レジストに
描画し鋳型を作製、鋳型にPDMSの樹脂を流しマイクロ流路を試作する方法
について実習、代表的試作マイクロ流路により機能の観察までを体験します。
なお、試作の流路はお持ち帰りいただけます。
★第15回 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議に出展しました。
日時：2016年1月27日（水） - 1月29日（金）10：00-17：00
場所：東京ビッグサイト東4・5・6ホール 会議棟 小間番５Ｕ－０１
https://ics-event.smktg.jp/public/application/add/246?lang=ja
セミナーA会場で主催者セミナーを行いました。
１月２７日（初日）１５：０５－１５：５０
★７月度ナノ茶論が開催されました。
日時 ： ２０１５年７月３０日（木）15:30 ～ 17:00
テーマ：「使える、使い続けられる」インフラ点検ロボット
講師 ： 株式会社イクシスリサーチ 代表取締役 山崎文敬氏
参加者数：１５名
イクシスリサーチ社が開発しているインフラ点検ロボットの紹介でした。
高速道路の橋やトンネル、下水管の内部などを点検するロボットで、
一見ローテクに思えるものですが、現場で確実に使えるものを目指
しています。
損壊した原発内部へ行くものは、絶対に帰ってくるもの、
途中で故障してその後の作業の邪魔になるようなことがないもの、
と言うのが条件です。
大変興味深い内容でした。
★６月度ナノ茶論が開催されました。
日時 ： ２０１５年６月２５日（木）15:30 ～ 17:00
テーマ：SCIVAXのナノインプリント技術
高輝度LEDからカラーセンサーまで
講師 ： SCIVAX株式会社 取締役副社長 奥田徳路 氏
参加者数：１８名
SCIVAX 社が開発しているカラーセンサーの実物デモがありました。
また、SCIVAXライフサイエンス社が開発した細胞培養プレートが、
アメリカのアマゾンでも買えることの紹介がありました。
★ナノ・マイクロ ビジネス展にポスター展示しました。
名称 ：ナノ・マイクロ ビジネス展／ROBOTECH 次世代ロボット
製造技術展
場所 ：パシフィコ横浜 展示ホール
日時 ：２０１５年４月２２日（水）～２４日（金）
10:00 ～ 17:00
15,000人もの方が来場したビッグイベントで、
LEDパネルを2枚掲示し、多数のパンフレットを配布しました。
★３月度の「ナノ茶論」が開催されました。
日時：２０１５年３月２４日（火）15:30 ～ 17:00
場所：NANOBIC ２階会議室
テーマ：ナノ・マイクロ技術における産学連携
講師：慶應義塾大学 理工学部 機械工学科 准教授 三木則尚氏
参加者数：１７名
三木先生が研究中の人体埋め込み型人工透析器の紹介があり、
産学連携を進めるための手順について盛んな議論がなされました。
★下記シンポジウムのポスターセッションに参加しました。
日時：２０１５年３月４日（水）13:00 ～ 19:00
場所：東京大学生産技術研究所（駒場） コンベンションホール
テーマ：平成26年度微細加工ナノプラットフォームコンソー
シアム・シンポジウム
NANOBICでの４大学コンソーシアムの取組内容をポスター掲示
しました。
約150人の参加があり、専門性の高い講演が多く、盛況でした。
★２月度の「ナノ茶論」が開催されました。
日時：２０１５年２月１９日（木）15:30 ～ 17:00
場所：NANOBIC ２階会議室
テーマ：ナノインプリントリソグラフィーを用いたＬＥＤ製造技術
講師：株式会社協同インターナショナル 電子部技術課長 大井秀雄氏
参加者数：18名
企業秘密ぎりぎりの内容まで発表して頂き、好評を得ました。
★nano tech 2015 に出展しました。
名称：第14回 国際ナノテクノロジー総合展・技術会議
日時：2015年1月28日（水） - 1月30日（金）10：00-17：00
場所：東京ビッグサイト東4・5・6ホール＆会議棟
３日目の金曜日は雪交じりの雨でしたが、
３日間で47,649名の入場がありました。
★機器利用実習会を実施しました。
名称：マイクロ流路試作実習会
目的：マスクレスレーザーリソグラフィによる迅速なマイクロ流路の形成を実習
日時：2015年1月14日（水）10:00 ～ 16:00
場所：NANOBIC クリーンルーム
実習装置：レーザー直接描画装置
講師：東京大学 三宅研究室
参加者数：６名
大変好評でした。
★１２月度の「ナノ茶論」が開催されました。
日時：２０１４年１２月１８日（木）15:30 ～ 17:30
場所：NANOBIC ２階会議室
テーマ：応用事例に学ぶマイクロ流路の科学とものづくり
講師：東京大学大学院工学系研究科教授 三宅亮氏
参加者数：２８名
忘年パーティーを兼ねて、この日は特別にアルコールも用意しました。
